在半导体制造的后端工艺(Back-End-of-Line,BEOL)及晶圆出货前(CP 测试)阶段,绝缘层质量直接决定芯片良率与长期可靠性。晶圆经过多层金属布线和钝化处理(如 PSG、BPSG)后,金属层之间以及金属层与硅基底之间会形成复杂的电容与电阻结构。
一、测试要求
1、层间绝缘评估
检测相邻金属布线层之间的绝缘电阻,排查因刻蚀不净、颗粒污染导致的微短路。
2、钝化层耐压与漏电流测试
评估晶圆表面钝化层(Passivation Layer)的完整性,测量其在特定偏压下的漏电流与绝缘电阻,防止潜在击穿风险。
3、高速测试
晶圆测试产能压力极大,传统单通道测试无法满足吞吐量要求,需要支持高速测试的设备。


